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武汉超纯水设备

简要描述:武汉超纯水设备是将水中的导电介质几乎*去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。这种水中除了水分子(H20)外,几乎没有什么杂质,没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物,超纯水是一般工艺很难达到的,电阻率一般为10~18.3MΩ·cm。

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  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-12-11
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武汉超纯水设备是将水中的导电介质几乎*去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。这种水中除了水分子(H20)外,几乎没有什么杂质,没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物,超纯水是一般工艺很难达到的,电阻率一般为10~18.3MΩ·cm。

常用工艺:

1、RO+离子交换

    特点:适用于原水水质较好的条件,投资较少,自动化程度相对较低,适用于出水品质在10—15兆欧/厘米。

2、RO+EDI

特点:自动化程度较高,出水品质稳定,适用于出水品质在15—17兆欧/厘米

3、RO+EDI+抛光床。

特点:自动化程度较高,投资较大,出水品质优良,适用于出水品质在17—18.3兆欧/厘米

武汉超纯水设备性能特点:

1、产品水品质高,长期运行产品水水质稳定。

2、自动化程度高,操作管理简单,劳动强度低
3、不会因再生而停机,连续再生,无需停机。

4、不需化学再生,无污水排废

5、运行费用低,能耗低

6、占地面积小,厂房投资少

应用行业:

1、太阳能光伏行业:单/多晶硅、硅片切割、太阳能电池、半导体硅材料等工用纯水和超纯水。

2、电子工业:半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线框架、集成电路、印刷电路板、液晶显示器、触摸屏、眼镜镜片、数码相机镜片、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用超纯水。

3、生物医药工业:生物技术用水、医药生产用水、生化制品用水、针剂、粉针剂、药剂、大输液、医用无菌水、口服液等符合GMP标准。

4、化工工业:化工工艺用水、化学试剂、化工生产用水、精细化工、化妆品、洗洁精、洗衣液、打印机墨水等生产工艺用纯水。

基本参数:

指标

参数

EDI要求:

反渗透RO产水,电导率1-50μs/cm,最大允许电导率≤50μs/cm

pH值:

7.5—9

温度:

15℃--35℃

进水压力:

0.15—0.4MPa

浓水进水压力:

0.10—0.3MPa

产水压力:

0.05—0.25MPa

浓水出水压力:

0.02—0.2MPa

进水硬度:

0.2—0.6MPA

进水有机物:

TOC<0.5ppm

进水氧化剂:

Cl2(活性)<0.03ppm

进水硅:

SiO2<0.5ppm

进水总CO2:

<3ppm

进水颗粒度:

<1μm

 

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